KAMAN埃米级电涡流传感器SMT9700在半导体晶片膜厚度控制中的应用
KAMAN电涡流传感器SMT9700硅晶片上的膜是通过化学气相沉积（CVD）生成的。怎样确保在晶片上形成均匀的化学层沉积呢？
KAMAN电涡流传感器能静态和动态地非接触、高线性度、高分辨力地测量被测金属导体距探头表面的距离。它是一种非接触的线性化计量工具。电涡流传感器能准确测量被测体（必须是金属导体）与探头端面之间静态和动态的相对位移变化。
1 在涡流技术领域处于国际的地位
2 在位置测量方面拥有超过40年的丰富经验
3 产品众多，可以根据用户需要提供各种解决方案
解决方案
SMT-9700化学沉淀反应开始之前，用KAMAN电涡流传感器确保半导体晶片圆盘是平行于气体分散喷头（参见图1）。当然该传感器是用于校验过的，量程在半导体晶片圆盘位置限定之内。
KAMAN产品的特点：
·涡电流技术的
·在位置测量领域有超过三十年的经验
·标准产品的规格非常齐全
·特制产品可满足客户个性化需求
·性能稳定，可重复高
·可达到次纳米的
·坚固，可靠
KAMAN系统提供模拟输出或可选的数字信号接口。如果半导体晶片圆盘是倾斜的，致动器会根据KAMAN系统输出的信号自动调整到水平。
结果：能得到一致并且均匀的沉积薄膜。